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  • 半导体工业被称为现代工业的“吐金机”。1998年,美国出版的《美国半导体工业是美国经济的倍增器》书中称:“半导体是一种使其他所有工业黯然失色,又使其他工业得以繁荣发展的技术。”书中介绍,美国半导体工业1996年创造了410亿美元的财富,并以每年15.7%的速度增加,比美国整体经济增长速度快13倍以上。除此之外,2017年美国半导体咨询委员会在给时任美国总统布什的国情咨文中称半导体工业为“生死攸关的工业”。韩国称其为“工业粮食”、“孝子产业”。所以毫不夸张地说,半导体工业是现代工业的生命线。半导体由美国发明,目前美国在尖端半导体研发、设计和制造方面仍然领先全球。2019年美国半导体公司营收占全球半导体市场(约4123亿美元)近一半。但是为了确保美国今后50年内在未来技术仍占据领先地位,美国认识到其仍需确保在半导体研发、设计和制造方面继续领先全球。近期美国半导体产业协会(SIA)发布报告指出,为了迎接挑战,并确保美国能继续领导全球半导体业,美国必须加大投资。SIA的报告从研发、人才、贸易三个方面提出政策建议,特别提出基础研究投资要由政府主导,而应用创新和产品开发要由企业自行投资。一个强大、财务状况良好的半导体产业对美国具有重要的战略意义。半导体技术的突破能够推动经济增长,对国家安全至关重要。为什么美国半导体业会有危机感?美国在半导体技术方面的长期领导地位取决于三大支柱:美国公司的开拓性...
    发布时间 :  2020 - 07 - 16
  • 近日,海南自由贸易港建设项目(第二批)集中开工活动举行,其中包括祥瑞鸿芯第三代半导体氮化镓材料与器件项目。据了解,该项目将新建综合动力站、化学品及气瓶库房、供氢站、纯化间、化学品库、废水池,同时新增工艺设备,金属有机物气相外延设备,氢化物气相外延设备及必要生产配套设备、设施,拟引进生产线10条,用于生产制造第三代半导体氮化镓材料与器件。海口高新区报道指出,该项目总投资2亿元,主要建设内容为先进半导体材料联合实验室、氮化镓外延片材料制备生产线、氮化镓单晶衬底生产线,建设期限为2020年7月-2022年2月。项目建成后将形成年产4英寸氮化镓外延片材料12000片和4英寸氮化镓单晶衬底4000片生产能力,具备研发8英寸硅衬底氮化镓外延片和6英寸氮化镓单晶衬底材料制备生产技术的技术支撑条件,达产销售额3亿元,达产税收2000万元。天眼查显示,海南省祥瑞鸿芯科技有限责任公司成立于2020年2月24日,所属行业为计算机、通信和其他电子设备制造业,经营范围包括:电子专用设备制造;电力电子元器件制造;电子元器件制造;其他电子器件制造等。来源:全球半导体行业观察版权归原作者所有,如涉及版权问题,请联系删除
    发布时间 :  2020 - 07 - 16
  • 周二(7月14日),英国改变立场,决定从明年起禁止购买华为产品。伴随华为争议的背后是英国氛围发生变化。英国电讯供应商被禁止在12月31日以后购买新的华为设备,而且要在2027年前从英国5G网中移除所有的华为设备。周二,英国国家安全委员会召开会议讨论了关于采购华为设备和网络安全问题。会议后英国文化大臣奥利弗•道登(Oliver Dowden)在英国议会下院宣布了上述决定。不过他还说,针对华为采取的行动把英国5G网络建设推迟了一年。道登说,在2G, 3G和4G网络中的华为设备将被自然淘汰。但保守党反叛议员要求更早,更彻底地从英国电讯网络中移除华为设备。周二宣布的决定表明政府在华为问题上发生了彻底转变。之前英国政府根据同英国电信商英国电信和沃达丰达成妥协,决定允许华为提供英国5G网络中35%的设备。周二早些时候中国外交部发言人赵立坚说,中国密切关注英国政府关于华为的决定,认为这关系到英国能否为中国企业在英国的企业提供开放,公平的环境,亦即脱欧后英国市场走向的试金石,也是中国在英投资是否安全的风向标。改变对华为的决定华为公司说他们在英国约有1,600名雇员,是中国在英国投资最大的企业之一。华为英国公司的负责人最近说到目前为止华为在英国只修建了两万个基站,而他们在全球今年修建了50万个基站。不过BBC科技新闻编辑利奥•克利昂(Leo Kelion)报道说,即使如此,华为仍然担心其他国家会像英...
    发布时间 :  2020 - 07 - 15
7月29日,第三届全国集成电路“创业之芯”大赛北京分站赛路演活动在中关村集成电路设计园芯创空间顺利举办。经过前期的严格筛选,高精度信号链芯片项目、FMCW激光雷达芯片化、用于MR及3D计算机视觉的AI处理器、基于R-SpiNNaker架构AI芯片的泛在机器触觉、为端侧AI计算赋能--可重构存算芯片等8个项目参与了本次路演活动。项目涉及核心芯片、智能装备、触觉传感、人工智能、精密光学、激光雷达技术等多个集成电路创新热点,覆盖多个高新应用领域。▲路演活动现场据统计,本次参赛的团队共拥有知识产权超过100个,多数项目已获得过融资且经过市场检验,有100万到1000万不等的年营收。▲路演活动现场活动中,共有清控资本、中科创星等18家投资机构30多位代表、技术专家及投资人参与其中,在现场与项目负责人进行了深度互动,并与部分项目达成了初步投资意向。▲项目现场对接全国集成电路“创业之芯”大赛是由工业和信息化部人才交流中心主办,晋江市人民政府承办,福建省集成电路产业园区建设筹备工作组、泉州半导体高新技术产业园区晋江分园区管理委员会共同参与的国内首个专注于集成电路领域中早期项目的全国赛事。▲第三届全国集成电路“创业之芯”大赛启动仪式本届大赛于2019年11月正式启动,于3月31日启动线上路演对接活动,先后举办4场创业导师辅导活动、22场项目精准对接活动、3场主题对接活动,路演项目涉及5G核心芯片、A...
发布时间 :  2020 - 07 - 31
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中芯国际现在已经开始生产14纳米芯片,且成功步入了能够生产FinFET的半导体厂家(Foundry)的行列。此外,中芯国际还继续扩大投资,并已经回到科创板上市,募集资金。然而,由于特朗普政政权的干预,中芯国际无法使用一部分尖端的半导体生产设备。在这种情况下,中芯国际能否长期、稳定地为SoC的尖端厂家提供技术工艺支持呢?位于中国北京的中芯国际工厂 中芯国际是中国大陆主要的半导体代工厂,在中国提供着最尖端的工艺技术,且被人们期待能够为中国芯片行业做出巨大贡献。目前,中芯国际正竭力追赶在半导体工艺(采用了EUV蚀刻的工艺)中领先的TSMC和三星电子。然而,按照媒体所说,由于禁令的缘故,中芯国际未成功买到计划中的先进光刻机。从营收上看, 全球最大的Foundry—-TSMC的销售额几乎是三星电子的三倍,而三星的销售额是排名第三的GLOBALFOUNDRIES的三倍左右,也是排名第四的UMC的三倍左右。位于第五名的中芯国际与GLOBALFOUNDRIES和UMC之间的差距也不小。中芯国际积极获取投资与专注于某项特殊技术的GLOBALFOUNDRIES和UMC不同,中芯国际致力于尖端节点(Node)技术,因此,从理论上来讲,中芯国际可以与TSMC和三星电子这样的拥有健全财务体制的厂家分庭抗礼。研发尖端节点技术需要花费数十亿美金的成本,此外,要产生利润,还需要300mm晶圆生产产线(这...
发布时间 :  2020 - 07 - 30
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据Gartner预测:2020年世界半导体晶圆代工(Foundry)市场预计为680亿美元,较2019年的627亿美元同比增长8.5%,占到世界半导体产业销售收入的14.6%,较2019年的占比下降0.5个百分点。中国大陆晶圆代工行业起步较晚,目前中国大陆产能只占全球12.5%。据芯谋研究(IC Wise)报道,2015年中国集成电路设计企业有736家,到2018年增加到1698家,2019年1780家。芯谋预测:到2020年中国集成电路设计企业将突破3000家。在短短的5年里,中国集成电路设计企业增长4倍之多,有力地促进了我国集成电路产业的发展,同时也为世界半导体晶圆代工业的发展作出了贡献。
发布时间 :  2020 - 07 - 29
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各县(市、区)市场监管局(知识产权局)、开发区分局:      根据《国家知识产权局办公室关于规范知识产权管理体系贯标认证工作的通知》(国知办发运字〔2019〕34号,见附件1)及《泉州市市场监督管理局关于组织申报2020年上半年市知识产权专项补助资金的通知》(泉市监函〔2020〕152号,以下简称《通知》)文件精神,经研究,我局决定组织对今年申报2019年1月1日至2020年5月31日新通过《企业知识产权管理规范》(GB/T29490-2013)国家标准认证(以下简称“贯标”)的企业开展评审,择优给予补助,现就有关事项通知如下:      一、评审对象      已按照上述(泉市监函〔2020〕152号)《通知》要求向泉州市市场监督管理局申报知识产权管理规范认证补助资金的企业(具体名单见附件2)。      二、需要提交的评审材料     (一)申报企业对照《泉州市企业知识和产权贯标考核评分表》(附件3,以下简称《评分表》),逐项认真对照自评,填写每项自评得分,需要提供佐证材料,并在表中注明对应佐证材料的页码(填写示例见附件4)。上述《评分表》...
发布时间 :  2020 - 07 - 28
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趋势1:摩尔定律将在未来8到10年内持续下去在接下来的8到10年中,CMOS晶体管的密度缩放将大致遵循摩尔定律。这将主要通过EUV图案化(patterning)方面的进展以及通过引入能够实现逻辑标准单元缩放的新型设备架构来实现。在7nm技术节点中引入了极紫外(EUV)光刻技术,可在一个曝光步骤中对一些最关键的芯片结构进行图案化。除了5nm技术节点之外(例如,当关键的后端(BEOL)金属间距小于28-30nm时),多图案EUV光刻变得不可避免,从而大大增加了晶圆成本。 最终,我们预计高数值孔径(high-NA)EUV光刻技术将可用于构图该行业1nm节点的最关键层。该技术将把其中一些层的多图案化推回单一图案化,从而降低成本,提升良率并缩短周期。 例如,Imec通过研究随机缺陷率,为推进EUV光刻做出了贡献。孤立的缺陷,例如微桥,局部折线以及缺少或合并的触点。随机缺陷率的改善可以导致使用较低剂量,从而提高产量。我们试图了解,检测和减轻随机故障,并且最近可能会报告随机缺陷率提高了一个数量级。 为了加快高NA EUV的引入,我们正在安装Attolab –允许在使用高NA工具之前测试一些用于高NA EUV的关键材料(例如掩模吸收层和抗蚀剂)。该实验室中的光谱表征工具将使我们能够在亚秒级的时间范围内观察抗蚀剂的关键EUV光子反应,这对于理解和减轻随机缺陷的形成也很重...
发布时间 :  2020 - 07 - 28
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