7月19日，ASML公布其2017第二季财报。ASML第二季营收净额 (net sales)21亿欧元，毛利率 (gross margin)为45%。在第二季新增8台EUV系统订单，至EUV光刻系统未出货订单累积到27台，总值高达28亿欧元。预估 2017第三季营收净额 (net sales) 约为 22 亿欧元，毛利率 (gross margin) 约为 43%。因为市场需求和 第二季的强劲财务表现，ASML 预估 2017 全年营收成长可达 25%。
ASML总裁暨执行长Peter Wennink指出 : "ASML今年的主要营收贡献来自内存芯 片客户，尤其在 DRAM 市场需求的驱动下，这部分的营收预估将比去年成长 50%，而来自逻 辑芯片方面的营收也可望成长 15%。除了DUV光刻系统的业务持续成长，在EUV光刻系统部分，未出货订单累积金额在第二季已经累积到28亿欧元，显示不论逻辑芯片和DRAM客户都积极准备将EUV导入芯片量产阶段。"此外，ASML近年来积极推行系统升级业务，该部分的营收贡献可望在今年成长 20%。"综合市场和各业务领域的捷报，我们认为成长动能将延续到 2018 年，"Peter Wennink说。
第二季产品重点摘要
· 深紫外光 (DUV)光刻: 推出最新浸润式光刻系统 TWINSCAN NXT:2000i，具备多项硬件技术创新，让客户得以在 7nm 和 5nm 制程节点上，同时用浸润式光刻和 EUV 系统进行 量产，并达到 2.5nm的迭对精度(on-product overlay)。另一方面，3D NAND 客户对于 KrF 干式光刻系统的需求持续升高，目前 TWINSCAN XT:860 的未出货订单已累积超过20台。TWINSCAN XT:860 系统的生产力可达到每天曝光 5,300 片晶圆。
· 全方位光刻优化方案 (Holistic Lithography): 本季开始出货最新的 YieldStar 375F 量测系 统，具备最新的光学技术，可更快、更精准的获取量测结果。
· 极紫外光(EUV)光刻: 在荷兰总部已经成功将升级的 EUV 光源整合进 NXE:3400B 系统中， 并达成每小时输出 125 片晶圆的生产力指标。至此，ASML 的 EUV 系统已经成功达成所 有计划中的关键效能指标，下一阶段，ASML 将专注于达成满足客户在量产时所需的相关 妥善率(availability)指标，并持续提升系统生产力。在第二季当中，ASML 也完成了对德国卡尔蔡司(ZEISS)旗下蔡司半导体(Carl Zeiss SMT) 24.9%的股权收购，以进一步深化双方 的策略伙伴关系，共同发展下一代 EUV 光刻系统。
展望2017年第三季，ASML预估整体销售净额可达22亿欧元，毛利率约落在43%，其中包含约3亿欧元的EUV营收认列。研发投资金额提高到3.15亿欧元，其他收入部份 (包括来自于客户共同投资计划的收入)约为 2,400 万欧元，而管销费用 (SG&A) 支出则约 1.05 亿欧元，年化税率约 14%。ASML 预计在第三季会有另外 3 台 NXE:3400B EUV 光刻系统完成出货。
股息及股票回购计划
ASML 在 2016 年1月宣布计划在 2016-2017年收购并注销以15亿欧元为上限的股票。由于进行汉微科的收购程序，ASML于2016年7月20日至2017年7月19日间暂停股票回购计 划。在本季成功完成对德国卡尔蔡司(ZEISS)旗下蔡司半导体(Carl Zeiss SMT) 的股权收购后，ASML宣布重新启动购票回购计划。