推荐产品 / Products More
  • 近日,关于芯片项目烂尾的报道引发行业高度关注,对此,国家发改委新闻发言人孟玮在10月20日举行的新闻发布会表示,将会同有关部门强化顶层设计,狠抓产业规划布局,努力维护产业发展秩序。近年来,党中央、国务院高度重视集成电路产业发展,出台了一系列政策措施,支持和引导产业健康发展。在相关政策的支持推动下,我国集成电路产业发展势头向好,技术水平大幅提升,企业加速成长壮大。孟玮指出,2019年,我国集成电路销售收入7562亿元,同比增长15.8%,已成为全球集成电路发展增速最快的地区之一。不过,随着国内投资集成电路产业的热情不断高涨,一些没经验、没技术、没人才的“三无”企业投身集成电路行业,个别地方对集成电路发展的规律认识不够,盲目上项目,低水平重复建设风险显现,甚至有个别项目建设停滞、厂房空置,造成资源浪费。孟玮表示,国家发展改革委一直高度重视集成电路产业健康有序发展,按照党中央、国务院决策部署,会同有关部门强化顶层设计,狠抓产业规划布局,努力维护产业发展秩序。针对当前行业出现的乱象,下一步将重点做好4方面工作。一是加强规划布局。按照“主体集中、区域集聚”的发展原则,加强对集成电路重大项目建设的服务和指导,有序引导和规范集成电路产业发展秩序,做好规划布局。引导行业加强自律,避免恶性竞争。二是完善政策体系。加快落实国发〔2020〕8号文,也就是关于新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展的若...
    发布时间 :  2020 - 10 - 21
  • 2007年以来,我们对21世纪前沿科技生态发展的规律进行研究。提出互联网从网状发展成为类脑架构是本世纪诸多前沿科技爆发的根源,通过互联网大脑模型的绘制,进一步提出世界范围的人、机、AI系统实现融合与协同决策,需要迎来第三次科技生态的全球标准。这一机制的实现将使得互联网大脑模型与人类社会进一步深入结合,从企业大脑到城市大脑,最终形成统一的世界神经系统,为人类社会的协同发展奠定技术和管理基础。1969年互联网诞生后,TCP/IP与万维网两个重要标准的制定,有力推动了信息科技的全球化发展与科技生态繁荣。21世纪以来,随着前沿科技的爆发和类脑智能巨系统的兴起,人类社会面临着第三次信息科技生态全球性标准的制定。一、1974年:第一次信息科技生态全球标准。在互联网产生之初,大部分联网的计算机相互之间并不兼容。在一台计算机上完成的工作,很难拿到另一台计算机上去用。    1974年,美国科学家卡恩(Robert Elliot Kahn)与瑟夫(Vint Cerf)共同开发了TCP/IP协议,这个协议为每一台运行在互联网的设备制定了访问地址,同时为不同的计算机,甚至不同类型的网络间传送信息包制定了统一的标准。所有连接在网络上的计算机,只要各自遵照这两个协议,都能够进行通信和交互。TCP/IP的产生也为21世纪之后传感器、机器人、无人机、智能汽车等智能设备平滑、无障碍地进入互联网...
    发布时间 :  2020 - 10 - 20
  • 2020年10月17日,第十三届全国人民代表大会常务委员会第二十二次会议通过了关于修改《中华人民共和国专利法》的决定,外观设计专利保护期限从10年延长至15年,自2021年6月1日起施行。定义原先:外观设计,是指对产品的形状、图案或者其结合以及色彩与形状、图案的结合所作出的富有美感并适于工业应用的新设计。修改:外观设计,是指对产品的整体或者局部的形状、图案或者其结合以及色彩与形状、图案的结合所作出的富有美感并适于工业应用的新设计。期限原先:发明专利权的期限为二十年,实用新型专利权和外观设计专利权的期限为十年,均自申请日起计算。修改:发明专利权的期限为二十年,实用新型专利权的期限为十年,外观设计专利权的期限为十五年,均自申请日起计算。
    发布时间 :  2020 - 10 - 19
近日,国务院学位委员会、教育部正式发布了关于设置“交叉学科”门类、“集成电路科学与工程”和“国家安全学”一级学科的通知。通知指出,按照党和国家事业发展需要,按照《学位授予和人才培养学科目录设置与管理办法》规定,经专家论证,国务院学位委员会批准,“决定设置“交叉学科”门类(门类代码为“14”)、“集成电路科学与工程”一级学科(学科代码为“1401)和“国家安全学”一级学科(学科代码为“1402)。”2020年7月30日,有消息称,国务院学位委员会会议投票通过了设立集成电路一级学科,拟设于新设的交叉学科门类下的提案,待国务院批准后,将与交叉学科门类一起公布。此前,全国政协委员、中科院微电子所副所长周玉梅在接受采访时也曾强调,我国集成电路快速发展的同时也面临着人才短缺的现象,具有集成电路方向优势的高校都应设立“集成电路科学与工程”一级学科。面对国家人才的急需,教育部应该尽快推动“集成电路科学与工程”一级学科的设立。
发布时间 :  2021 - 01 - 11
浏览次数:32
中国半导体产业发展的成长率引领全球,高于全球。SEMI在SEMICON Japan上发布的年终总设备预测报告显示,预计2020年原始设备制造商的半导体制造设备的全球销售额将比2019年的596亿美元增长16%,创下689亿美元的新纪录。预计全球半导体制造设备市场将继续增长,2021年将达到719亿美元,2022年将达到761亿美元。SEMI预计,2020年全球半导体材料市场增长2.2%,较年中上调,达539亿美元,其中大陆市场增长9.2%,是全球唯二增长的市场。预计2021年增长率为5%,总体规模再创历史新高,达565亿美元。中国大陆将突破100亿美元大关,达到104亿美元,居全球第二,并且继续扩大与第三名韩国优势。排除万难,第三十二届全球规格最高、最具影响力的国际半导体展SEMICON/FPD China已于去年6月27-29日在上海浦东新国际博览中心和浦东嘉里大酒店盛大举行。当时的疫情、暴雨并没有削弱产业界对SEMICON的热情。作为2020年中国电子半导体行业首展,SEMICON/FPD China 2020对国际半导体产业的推动,以及对国内半导体产业的复苏具有指标性的象征意义。回顾展会在“曲曲折折、排除万难”的情况下得以顺利举办,SEMI全球副总裁、中国区总裁居龙表示,从去年1月国内、3月国外疫情爆发,国家实施签证管制,直到5月份中国疾控中心及上海市政策放松,在5月13日正...
发布时间 :  2021 - 01 - 07
浏览次数:167
12月23日,晋江集成电路产业招商项目集中签约暨集成电路知识产权联盟福建分联盟揭牌活动在福建省晋江市成功举办。晋江市人民政府副市长庄天怀、赛昇控股(北京)集团有限公司副总裁刘永东共同为集成电路知识产权联盟福建分联盟揭牌并颁发证书。目前,福建分联盟已有十余家联盟会员单位。未来,福建分联盟将凭借自身平台优势,积极发展会员,集聚集成电路产业人才,汇聚国内外高端技术,协助企业解决知识产权及半导体合规相关问题,引领带动产业链上下游协同,建立高质产业生态,为福建省集成电路产业建设与发展贡献力量。
发布时间 :  2020 - 12 - 25
浏览次数:112
今日上午,晋江集成电路产业基地招商项目集中签约暨集成电路知识产权联盟福建分联盟揭牌活动在泉州(晋江)国际人才港举行。11个集成电路项目正式签约落地晋江,计划总投资18亿元。泉州半导体高新区管委会主任洪武强,泉州市发改委副主任陈招平,泉州市工信局副局长许自霖,晋江市副市长庄天怀,泉州半导体高新区管委会副主任、晋江市政府党组成员陈志雄等出席活动。活动现场,高精度物联网定位芯片模组研发及生产、智慧安防传感器芯片模组研发及生产、5G光电集成模块的封装与测试等11个项目现场签约,涵盖集成电路设计、封测、材料、终端应用、配套平台、教育培训等多个领域,将进一步完善晋江集成电路产业生态圈。现场还举行了集成电路知识产权联盟福建分联盟揭牌仪式。据悉,集成电路知识产权联盟秘书处在集成电路知识产权联盟泉州分中心基础上,积极联络泉州、厦门、福州等地集成电路产业链上下游企业、高等院校等机构,筹备组建了集成电路知识产权联盟福建分联盟,旨在更好的服务福建省集成电路产业发展,针对性的提供专业化支撑服务。△晋江市副市长庄天怀致辞“当前,我国经济进入新常态,经济发展、产业转型呈现新特点、面临新挑战。晋江作为全国最具活力的县域之一,新一轮大建设、大发展的序幕已经拉开。”庄天怀在致辞中表示,晋江正把握历史机遇,主动融入国家战略布局,把集成电路产业作为重点培育的高新技术产业和新一轮发展的重要引擎。晋江一直致力于打造一流的营商...
发布时间 :  2020 - 12 - 24
浏览次数:234
数据显示,2019年我国集成电路(IC)进口金额达3055.5亿美元,约占全部进口总额的2.1%,集成电路已连续十年成为我国第一大宗进口商品,其中大部分为高端芯片。而高端光刻机是半导体产业链中技术含量最高、最核心、最关键的设备,是生产高端芯片的“制器之器”,被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”。能否在这一领域实现重大突破,关系到我国半导体行业能否从根本上扭转“卡脖子”被动地位,从而将行业未来发展的主动权掌握在自己手中。本文基于专利文献,全面研究了生产高端芯片的极紫外(EUV)光刻技术的整体专利态势,以期对行业技术发展有所参考。全球申请态势  EUV光刻技术于上世纪80年代由日本的H.Kinoshita首先提出并完成原理验证,它采用的EUV光波长为13.5nm,经过业界30多年持续的投入和研究,终于在2015年由荷兰的阿斯麦尔(下称ASML)公司量产了世界上第一台成熟的EUV光刻机(NXE:3400B)。由于传统的透射型光学器件对于EUV光存在强烈的吸收效应,为克服该吸收效应,包括照明系统和物镜系统在内的EUV光学系统需采用反射式结构,且需要光学薄膜、光学材料、光刻胶等都发生相应的变革,相当于对整个投影光刻技术的一次重塑。EUV光刻技术在具有极高技术难度的同时,其优势也是显而易见的:其工作波长仅为ArF准分子激光器的1/14,根据瑞丽公式,这将大大增加光刻分辨率,一方面可以允许工艺因子K...
发布时间 :  2020 - 12 - 22
浏览次数:223
1434页次41/287首页上一页...  36373839404142434445...下一页尾页
联系我们 关于我们 / contact us
国家工业信息安全发展研究中心
010-68668488   icipa@ccwre.com.cn
86 0755-2788 8009
北京市石景山区鲁谷路35号冠辉大厦12楼
该平台是面向全球、服务全国的,产业化、国际化综合性知识产权创新平台,采用五横两纵架构,不仅实现了对科技资源的有效整合,而且为创新服务业务应用系统提供了安全稳定运行的平台,通过基础设施、数据资源库、应用支撑、安全保障和综合管理五个层面,支撑信息资源共享服务子平台、产业创新大数据服务子平台、现代知识产权综合管理子平台、知识产权运营与金融服务子平台、知识产权托管子平台等五大子平台10多个系统的运行,并依托统一门户网站为用户提供“一站式”服务。
Copyright ©2017 - 2021 北京赛昇计世资讯科技有限公司
犀牛云提供企业云服务