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  • JEDEC固态技术协会今天将发布其下一个主流存储器标准DDR5 SDRAM的最终规范,这将标志着计算机存储器开发的一个重要里程碑。自90年代末以来,DDR的最新版本一直在驱动PC,服务器以及所有产品之间的发展,DDR5再次扩展了DDR内存的功能,使峰值内存速度提高了一倍,同时也大大增加了内存大小。预计到2021年,基于新标准的硬件将在服务器级别开始采用,然后再推广到客户端PC和其他设备。DDR5规范最初计划于2018年发布,今天的发布相对于JEDEC的原定计划有些落后,但并没有降低新存储器规范的重要性。像之前的DDR每次迭代一样,DDR5的主要重点再次是提高内存密度和速度。JEDEC希望将两者都提高一倍,最大内存速度设置为至少6.4Gbps,而单个封装的LRDIMM的容量最终将达到2TB。一直以来,存在一些较小的更改以支持这些目标或简化生态系统的某些方面,例如,DIMM上的电压调节器以及芯片上的ECC。变得更大:更密的内存和芯片堆叠我们首先简要介绍一下容量和密度,因为与DDR4相比,这是对标准最直接的更改。DDR5的设计时间跨度为数年,它将允许单个存储芯片达到64Gbit的密度,这比DDR4的最大16Gbit密度高出4倍。结合die堆叠,可以将多达8个管芯die为一个芯片,那么40个单元的LRDIMM可以达到2TB的有效存储容量。或者对于更不起眼的无缓冲DIMM,这意味着我们最终将...
    发布时间 :  2020 - 07 - 15
  • 张广良(中国人民大学国际知识产权研究中心主任)  商标是经营者商誉的集中体现,是其重要的无形资产。在我国实施创新驱动发展战略的背景下,商标承载着市场主体的创新能力及产品、服务对消费者吸引力。因此,加大商标专用权保护就是激励与保护创新。行政执法是我国保护注册商标专用权的重要途径。国家知识产权局近日发布的《商标侵权判断标准》(下称《判断标准》)为执法工作提供了明确的标准,是强化商标专用权保护的重要举措。厘清商标侵权判定的重要问题  商标侵权判定有其内在的逻辑,涉及较为复杂的事实认定、法律适用问题。在总结我国商标行政执法经验、借鉴相关司法解释的基础上,《判断标准》明确回答了商标侵权判定中的重要问题,统一了执法尺度。  《判断标准》指出,“判断是否构成商标侵权,一般需要判断涉嫌侵权行为是否构成商标法意义上的商标的使用”,并对商标使用的概念、具体表现形式以及商标使用的判断因素等进行了明确的规定,解决了实践中长期存在的商标使用与商标侵权的关系问题。依据《判断标准》,一般情形下只有涉嫌侵权行为属于对他人商标的使用,才可能构成商标侵权。易言之,商标使用是商标侵权判断的逻辑起点。《判断标准》使用了“一般需要判断涉嫌侵权行为是否构成商标法意义上的商标的使用”的表述,为执法机关处理商标标志商品化等新型商标侵权行为预留了制度空间。  商标侵权判定涉及到注册商标专用权范围的划定。确定注册商标专用权范围,是判...
    发布时间 :  2020 - 07 - 14
  • 人工智能已经成为目前芯片行业的一个重要驱动力。回顾人工智能在半导体行业的发展,我们可以清晰地看到一条从云到终端的演进路线。最初,人工智能主要是作为一种服务部署在云端。本代人工智能基于大数据和神经网络,因此在训练时候需要大量的算力,在云端部署的时候也需要算力做支撑,因此云端人工智能领域中以Nvidia为代表的GPU加速人工智能成为了关注焦点,同时也有以Graphcore、Habana为代表的云端专用人工智能芯片公司与GPU分庭抗礼。2018年之后,随着模型和芯片设计的优化,人工智能逐渐从云端下沉到手机等强智能设备终端,在手机上基于人工智能算法的超分辨、美颜、人脸识别等应用也渐渐得到了主流认可,相应的芯片(IP)也就成为了手机SoC上不可或缺的一部分,高通、苹果、华为海思等都拥有自己的高性能人工智能加速IP,用以支持手机人工智能应用。而随着人工智能技术的进一步演进,我们看到它正在进一步和物联网结合,超低功耗人工智能正是这个人工智能继续下沉的新动向。超低功耗人工智能芯片的应用场景超低功耗人工智能芯片(IP)的工作功耗在数十毫瓦或更低(作为比较,手机端人工智能IP的工作功耗往往在数百毫瓦到瓦级别,而云端人工智能加速卡功耗通常在数百瓦),同时往往结合事件驱动技术,即绝大部分时间计算部分都处于休眠状态,仅仅在发生相关事件时才会启动,这样就可以把平均功耗降低到毫瓦数量级以下。超低功耗人工智能可以...
    发布时间 :  2020 - 07 - 14
据Gartner预测:2020年世界半导体晶圆代工(Foundry)市场预计为680亿美元,较2019年的627亿美元同比增长8.5%,占到世界半导体产业销售收入的14.6%,较2019年的占比下降0.5个百分点。中国大陆晶圆代工行业起步较晚,目前中国大陆产能只占全球12.5%。据芯谋研究(IC Wise)报道,2015年中国集成电路设计企业有736家,到2018年增加到1698家,2019年1780家。芯谋预测:到2020年中国集成电路设计企业将突破3000家。在短短的5年里,中国集成电路设计企业增长4倍之多,有力地促进了我国集成电路产业的发展,同时也为世界半导体晶圆代工业的发展作出了贡献。
发布时间 :  2020 - 07 - 29
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各县(市、区)市场监管局(知识产权局)、开发区分局:      根据《国家知识产权局办公室关于规范知识产权管理体系贯标认证工作的通知》(国知办发运字〔2019〕34号,见附件1)及《泉州市市场监督管理局关于组织申报2020年上半年市知识产权专项补助资金的通知》(泉市监函〔2020〕152号,以下简称《通知》)文件精神,经研究,我局决定组织对今年申报2019年1月1日至2020年5月31日新通过《企业知识产权管理规范》(GB/T29490-2013)国家标准认证(以下简称“贯标”)的企业开展评审,择优给予补助,现就有关事项通知如下:      一、评审对象      已按照上述(泉市监函〔2020〕152号)《通知》要求向泉州市市场监督管理局申报知识产权管理规范认证补助资金的企业(具体名单见附件2)。      二、需要提交的评审材料     (一)申报企业对照《泉州市企业知识和产权贯标考核评分表》(附件3,以下简称《评分表》),逐项认真对照自评,填写每项自评得分,需要提供佐证材料,并在表中注明对应佐证材料的页码(填写示例见附件4)。上述《评分表》...
发布时间 :  2020 - 07 - 28
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趋势1:摩尔定律将在未来8到10年内持续下去在接下来的8到10年中,CMOS晶体管的密度缩放将大致遵循摩尔定律。这将主要通过EUV图案化(patterning)方面的进展以及通过引入能够实现逻辑标准单元缩放的新型设备架构来实现。在7nm技术节点中引入了极紫外(EUV)光刻技术,可在一个曝光步骤中对一些最关键的芯片结构进行图案化。除了5nm技术节点之外(例如,当关键的后端(BEOL)金属间距小于28-30nm时),多图案EUV光刻变得不可避免,从而大大增加了晶圆成本。 最终,我们预计高数值孔径(high-NA)EUV光刻技术将可用于构图该行业1nm节点的最关键层。该技术将把其中一些层的多图案化推回单一图案化,从而降低成本,提升良率并缩短周期。 例如,Imec通过研究随机缺陷率,为推进EUV光刻做出了贡献。孤立的缺陷,例如微桥,局部折线以及缺少或合并的触点。随机缺陷率的改善可以导致使用较低剂量,从而提高产量。我们试图了解,检测和减轻随机故障,并且最近可能会报告随机缺陷率提高了一个数量级。 为了加快高NA EUV的引入,我们正在安装Attolab –允许在使用高NA工具之前测试一些用于高NA EUV的关键材料(例如掩模吸收层和抗蚀剂)。该实验室中的光谱表征工具将使我们能够在亚秒级的时间范围内观察抗蚀剂的关键EUV光子反应,这对于理解和减轻随机缺陷的形成也很重...
发布时间 :  2020 - 07 - 28
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近日,兆易创新在投资者互动平台上表示,公司DRAM芯片自主研发及产业化项目于2020年5月完成资金募集,现项目研发工作正在进行中。2019年9月,兆易创新发布非公开发行股票预案,拟募集资金总额不超过人民币43亿元,用于DRAM芯片自主研发及产业化项目及补充流动资金,以实现国内存储芯片设计企业在DRAM领域的突破。公告显示,兆易创新DRAM芯片研发及产业化项目计划投资总额约40亿元,拟投入募集资金33亿元。兆易创新拟通过本项目,研发1Xnm级(19nm、17nm)工艺制程下的DRAM技术,设计和开发DDR3、LPDDR3、DDR4、LPDDR4系列DRAM芯片。根据兆易创新此前发布的《非公开发行A股股票申请文件一次反馈意见的回复》显示,兆易创新对DRAM芯片研发及产业化项目各个阶段的实施时间、整体进度进行了安排。根据安排,兆易创新计划在2020年定义首款芯片的生产制程,并将经过验证后的设计展开流片试样,经过反复测试、反复修改直到样片设计符合设计规范并通过系统验证;2021年,首款芯片客户验证完成后进行小批量产,测试成功后进行大批量产;2022年至2025年,兆易创新计划完成多系列产品陆续研发及量产。资料显示,兆易创新自2005年设立并进入闪存芯片设计行业,通过技术开拓、业务并购,目前已成为中国大陆最为领先的芯片设计企业之一,其主营业务为闪存芯片及其衍生产品、微控制器产品、传感器模块的...
发布时间 :  2020 - 07 - 27
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21日,代省长王宁率省直有关部门负责同志到泉州市调研,深入园区企业看生产、问销售,听意见、解难题,详细了解当地经济运行及产业发展情况,推进落实省委对下半年工作的部署要求。泉州作为制造业大市,面对疫情冲击,主动发力新经济、新产业,培育发展新动能。在晋江市,王宁先后察看了矽品集成电路封装测试项目和晋华集成电路生产线项目,仔细询问企业发展情况及需要帮助解决的难题,鼓励企业抓住“芯”机遇,加大自主研发力度,掌握关键技术,突破瓶颈制约,增强核心竞争力。同时,泉州积极支持引导企业加快转型升级,通过科技赋能,实现创新提升。南安市九牧集团西河卫浴公司通过建设智能化、自动化生产线,疫情期间仍保持两位数增长,王宁给予充分肯定,叮嘱企业聚焦实业、做精主业,加大研发投入,以科技创新培育竞争新优势,以供给侧改革更好对接市场需求。 调研期间,王宁主持召开座谈会,与泉州市、县和部门有关负责同志一起研究推进下半年重点工作。他说,泉州经济体量全省最大,常态化疫情防控下,经济加快复苏态势明显,展现出泉州民营经济的超强韧劲和旺盛活力。要鼓足干劲、迎难而上,深挖潜力、提质增效,全面落实“六稳”“六保”任务,全力实施“八项行动”,当好全方位推动高质量发展超越的主力军。要坚定不移兴产业,抢抓“两新一重”投资窗口,一手抓传统产业改造升级,一手抓新兴产业培育壮大,充分发挥中央企业在当地的投资效应,促进经济持续健康发展。...
发布时间 :  2020 - 07 - 24
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